CMSD2000系列研磨分散（胶体磨）设备特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。我们将高剪切均质分散机进行改装，我们将三变跟为一，然后在均质头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过均质将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMSD胶体磨设备选型表：
| 胶体磨 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
|
类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
|
CMSD 2000/4 |
300 |
14,000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
|
CMSD 2000/5 |
1000 |
10,500 |
41 |
11 |
DN40/DN32 |
|
CMSD 2000/10 |
4000 |
7,200 |
41 |
22 |
DN80/DN65 |
|
CMSD 2000/20 |
10000 |
4,900 |
41 |
45 |
DN80/DN65 |
|
CMSD 2000/30 |
20000 |
2,850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
|
CMSD2000/50 |
60000 |
1,100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。 |
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