所谓医药中间体,实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品,不需要药品的生产许可证,在普通的化工厂即可生产,只要达到一些的别,即可用于药品的合成。
我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种,需求量达250万吨以上。经过30多年的发展,我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套,只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富,原材料价格较低,有许多中间体实现了大量出口。那么,我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢?我国β-内酰胺类抗生素经过近50年的发展,已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β-内酰胺类抗生素(除利期内的品种外)我国都能生产,而且成本很低,青霉素产量居位,大量出口供应国际市场;头孢类抗生素基本能够自给自足,还能争取一部分出口。
2012年,与β-内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产,除了半合成抗生素的母核7-ACA和7-ADCA需要部分进口外,所有的侧链中间体均可生产,而且大量出口。
以β-内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例,我国现有苯乙酸生产厂家近30家,总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小,大的年产2000吨,其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨,消费结构为:青霉素G占85%,其他医药占4%,香料占7%,农药及其他域占4%。
随着国内香料、医药、农药等行业的发展,苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年,我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨,农药行业将消费500吨,香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量,预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。
所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机,是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构,三组分散刀头,表面含有不同粒度大小的金属颗粒,这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计,增大了冷却表面积,更利于长时间工作。 产品说明:锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨,可获得更细悬浮液,技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。
第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。
第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。
所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机,是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构,三组分散刀头,表面含有不同粒度大小的金属颗粒,这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计,增大了冷却表面积,更利于长时间工作。 产品说明:锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨,可获得更细悬浮液,技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。
第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。
第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。
医药中间体CMD2000系列胶体磨(研磨分散机)的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表
高速胶体磨 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
CMD 2000/4 |
700 |
14000 |
40 |
4 |
DN25/DN15 |
CMD 2000/5 |
5,000 |
10,500 |
40 |
11 |
DN40/DN32 |
CMD 2000/10 |
10,000 |
7,300 |
40 |
22 |
DN50/DN50 |
CMD 2000/20 |
30,000 |
4,900 |
40 |
45 |
DN80/DN65 |
CMD 2000/30 |
60,000 |
2,850 |
40 |
75 |
DN150/DN125 |
CMD 2000/50 |
100000 |
2,000 |
40 |
160 |
DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的10%。 |