JSD500 三靶磁控溅射镀膜系统

  该设备用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的 制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

  系统主要有溅射真空室、磁控溅射靶、基片加热旋转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。