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碘化亚铜
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CuI作为一种宽禁带直带隙p型半导体材料,带隙宽度为3.1eV,在可见光范围(400nm-760nm)内具有很高的透过率,具有很高的Chemicalbook载流子浓度和空穴迁移率,而且制备方法简单易行,耗材损耗少,制备效率高,制备过程无毒无污染,因此在半导体光电器件领域具有广泛的应用前景
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