铂炭是一种将铂负载到活性炭上的一种载体催化剂，属于贵金属催化剂中的一种，可用于制药、电子等域。贵金属催化剂的一种，一般金属负载含量在0.5-20% ,产品名称：铂炭，铂炭催化剂，Pt/C，铂碳,外观：黑色粉末,分子量：195.08,分子式：Pt/C.
一种新上市的铂碳催化剂高剪切研磨分散机的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹，近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是，在某一能量水平上， 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。目国内市场上大多数的湿法粉碎机厂家生产出来的湿法粉碎机转速只能达到3000rpm左右，的 当然我所说的XX湿法粉碎机机的结构大都都是直连电机或者分体式 ，粉碎机的主轴和电机直连，电机就决定了主轴的转速。
一种新上市的铂碳催化剂高剪切研磨分散机通过皮带传送，可实现2到3倍的加速，同时立式直立的转轴，运转稳定性大大提高，同时转子动平衡性得到提高，间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式胶体磨研磨分散机有好的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理，还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎，超细物料的均匀分散，以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨 也可以成为反应发生的场所，比如两种液体物料反应生成固体颗粒，通过分别通入腔体，两种物料接触时被剪切成微滴，均匀混合后反应生成的粒子大小均匀，并且粒径很小。
IKN研磨分散机由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果
铂碳催化剂胶体磨研磨分散机研磨分散机机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。第yi由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（分散头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMSD2000系列铂碳催化剂胶体磨研磨分散机的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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影响研磨粉碎结果的因素有以下几点：
1.胶体磨磨头头的剪切速率 （越大，效果越好）
2. 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
3.物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
4.线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求
设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
CMSD2000系列铂碳催化剂胶体磨研磨分散机设备参数选型表：
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研磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
|
类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
|
CMSD 2000/4 |
300 |
14,000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
|
CMSD 2000/5 |
1000 |
10,500 |
41 |
11 |
DN40/DN32 |
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CMSD 2000/10 |
4000 |
7,200 |
41 |
22 |
DN80/DN65 |
|
CMSD 2000/20 |
10000 |
4,900 |
41 |
45 |
DN80/DN65 |
|
CMSD 2000/30 |
20000 |
2,850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
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CMSD2000/50 |
60000 |
1,100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。 |
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1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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研磨分散机应用域： 化学工业：油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,炭黑,纤维素，石墨烯，碳纳米管，富勒烯，电池浆,压裂液料,纤维,芳纶,氯纶,晴纶等。 食品工业：芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麦乳精、香精、各种饮料 花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱，食用菌丝，豆粕酶解等
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